近日，配电王海良课题组利用XANES等先进表征技术研究富含缺陷的单晶超薄四氧化三钴纳米片及其电化学性能（Adv.EnergyMater.2018,8,1701694）,如图一所示。

在1.6VvsRHE下，开关控制开颗粒在1,000小时内显示出极高的活性和稳定性。图8.EC-MS和LEIS来自同位素标记实验，设备使用程序a。

 a，厂商次TOF由NiF纳米粒子的总金属质量（TOFbulk），厂商次Ni氧化还原峰（TOFredox）和估算的表面原子（TOFsurface）计算，在η=300mV，在N2饱和的1.0MKOH中测量，10mVs-1作为粒径的函数。控0万揭示了负责催化性能的活性位点仅位于纳米颗粒的~3个原子层厚的氧化还原活性近表面区域。智造本文的最有催化剂在3V的过电位下催化水氧化的转换频率为6.2±1.6s-1,这是碱性溶液中氧气释放性能的最高值。

在1.6VvsRHE下，拟首~100ng6.7nmNiFe纳米颗粒的质量活性，在1MKOH中具有电流中断（iR）校正。对于Ni2p3/2（b）和Fe2p3/2（c）区域显示的XPS光谱经过电荷校正，股新股并在减去Shirley背景后用Au4f峰面积归一化。

使用一系列严谨充分的表征手段，配电特别是电化学质谱以及O18同位素标记实验，论证充分，结果可信。

开关控制开最佳催化剂可以连续稳定超过1000个小时。对ηOER和ΔG0O*-ΔG0HO*作图发现不同氧化物呈现出火山的关系，设备而ΔG0O*-ΔG0HO*则遵循Sabatier原理，设备即火山图中越靠近左侧，与氧键合能力越强，产物越难脱附，HOO*越难形成。

厂商次 (f)(012)α-Fe2O3的高分辨透射电镜图。作为一种带隙合适的半导体，控0万它更多的是被作为光电化学反应的光阳极进行研究。

这种对非高活性纳米材料进行调控以及构筑高活性表面的策略，智造对于今后设计高效OER催化剂具有一定的参考意义。DFT计算与实验结果表明不同晶面在OER过程中对ΔG0O*-ΔG0HO*，拟首即descriptor具有决定性作用